高気密性
真空アプリケーションに適した安全な接続

高圧および超高真空アプリケーション

ODUは、高度な気密性や圧縮強度が求められる要件を満たすコネクタを開発し作り上げるノウハウと専門知識を十分に備えています。素材に関する詳細な知識に、アプリケーションに適した密封方法の選択、さまざまな圧着技術をこなす卓越した技能、FEMによる包括的な数値解析などの能力、そして培ってきた長年の豊富な経験とが最適なコネクタを開発する基本となっています。

電気による伝送インタフェースの気密性に対する要件は日ごと高まっています。産業アプリケーションでは、通常の埃からの保護や水密性(保護等級)といった要件から水中での高度な気密性まで、ほぼ絶対的な気密性が求められるほどに、必要条件の水準は高まってきています。例えば密封された領域内で真空を作り出すには、確実な気密性が必要です。気密性に対しては様々な品質レベルが設けられています:中真空、高真空、超高真空です。

中真空:1 ~ 10−3 mbar l/s
高真空:10−3 ~ 10−7 mbar l/s
超高真空:10−7 ~ 10−12 mbar l/s

超高真空の気密性とは、長期密封されたまま保たれるシステムのことです。ということは、機器、空間、製品設備などが例え分子レベルのようなレベルのわずかな汚染の侵入や漏れからも完全に守られていることを意味します。
ODUはこの分野で、新シリーズのコネクタをもって新しい標準を確立しました。
ガラス射出成型技術を利用することにより、気密封止パーツはUHVに適したインタフェースに対する厳しい要件を十分に満たすのみならず、極度の温度変化にも耐えます。さらに新しいコネクタはお客様のもう一つの重要な高速データ伝送という要件も満たします。
 
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